PVD可以在不銹鋼、銅、鈦 鋅鋁合金等金屬上鍍制CrN. TiN. TiAlCN. TiCN. TiAlN。

實現(xiàn)鈦金、玫瑰金、玫瑰紅、紫金等顏色的薄膜鍍膜通常需要不同的靶材和氣體組合，具體如下： 鈦金薄膜：可以采用Ti、TiAl、TiAlZr等靶材，使用氮氣、氧氣等氣體作為反應氣體。

PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。