2、它是一種蒸發(fā)真空鍍膜技術(shù)，由蒸發(fā)、運(yùn)輸、反應(yīng)、沉積四個(gè)物理反應(yīng)完成材料鍍膜的過程，可以說是一種替代電鍍的過程。

3、PVD即物理氣相沉積工藝。pvd是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。