還原爐底盤具有以下特點(diǎn)：

1. 結(jié)構(gòu)復(fù)雜且精細(xì)：包括底盤主體，主體內(nèi)又分相對(duì)間隔設(shè)置的第一底盤、第二底盤和第三底盤，形成了冷卻腔室和進(jìn)氣腔室。

2. 進(jìn)氣與導(dǎo)流設(shè)計(jì)獨(dú)特：第三底盤設(shè)有進(jìn)氣孔向進(jìn)氣腔室通氣，冷卻腔室內(nèi)設(shè)置多個(gè)同心間隔的導(dǎo)流環(huán)板，形成導(dǎo)流通道，使氣體均勻進(jìn)入還原爐。

3. 環(huán)隙與擋板設(shè)置：第一底盤和第二底盤分別形成多個(gè)環(huán)隙，導(dǎo)流環(huán)板一端與環(huán)隙連通，其位于還原爐內(nèi)的一端端部設(shè)有擋板，能遮擋導(dǎo)流通道部分。

4. 功能多樣的部件：導(dǎo)流環(huán)板一端還設(shè)置有換向環(huán)板、延長(zhǎng)環(huán)板等，電極外設(shè)置套筒，底盤上有排氣管、冷卻水循環(huán)管等。

5. 多種分布方式：如進(jìn)氣口組、還原尾氣出口組、電極基座組沿盤體的徑向間隔開設(shè)置，且有交替設(shè)置的情況。

6. 數(shù)量與間距設(shè)置：進(jìn)氣孔、電極基座、進(jìn)氣口、還原尾氣出口等數(shù)量有具體設(shè)定，電極基座組的相鄰電極基座在底盤周向上有特定間距。

7. 組合與分層設(shè)計(jì)：有的底盤包括第一盤體和第二盤體，兩者限定出冷卻腔。

8. 提高生產(chǎn)效果：能使原料氣體更均勻地進(jìn)入還原爐，提高流場(chǎng)和溫度分布均勻性，有利于硅棒沉積，改善硅棒表面質(zhì)量，避免倒棒、硅棒偏心等現(xiàn)象。

（圖/文/攝：太平洋汽車 整理于互聯(lián)網(wǎng)）